ग्लास वाइप्ड फिल्म आणविक आसवन उपकरण

आणविक आसवनयह एक विशेष द्रव-द्रव पृथक्करण तकनीक है, जो पारंपरिक आसवन से भिन्न है, जो क्वथनांक अंतर पृथक्करण के सिद्धांत पर आधारित है। यह उच्च निर्वात में आणविक गति के मुक्त पथ में अंतर का उपयोग करके ऊष्मा-संवेदनशील पदार्थों या उच्च क्वथनांक वाले पदार्थों के आसवन और शुद्धिकरण की एक प्रक्रिया है। इसका उपयोग मुख्य रूप से रासायनिक, दवा, पेट्रोकेमिकल, मसाले, प्लास्टिक और तेल जैसे औद्योगिक क्षेत्रों में किया जाता है।

पदार्थ को संभरण पात्र से मुख्य आसवन जैकेटयुक्त वाष्पित्र में स्थानांतरित किया जाता है। रोटर के घूर्णन और निरंतर तापन के माध्यम से, पदार्थ द्रव को एक अत्यंत पतली, अशांत द्रव फिल्म में खुरच कर सर्पिल आकार में नीचे की ओर धकेला जाता है। अवरोहण की प्रक्रिया में, पदार्थ द्रव में मौजूद हल्का पदार्थ (कम क्वथनांक वाला) वाष्पीकृत होने लगता है, आंतरिक संघनित्र में चला जाता है, और द्रव बनकर प्रकाश प्रावस्था ग्रहण करने वाले फ्लास्क में प्रवाहित होने लगता है। भारी पदार्थ (जैसे क्लोरोफिल, लवण, शर्करा, मोमी, आदि) वाष्पित नहीं होते, बल्कि मुख्य वाष्पित्र की भीतरी दीवार के साथ भारी प्रावस्था ग्रहण करने वाले फ्लास्क में प्रवाहित होते हैं।