ग्लास पोंछे फिल्म आणविक आसवन उपकरण

आणविक आसवनएक विशेष तरल-तरल पृथक्करण तकनीक है, जो पारंपरिक आसवन से अलग है जो क्वथनांक अंतर पृथक्करण के सिद्धांत पर निर्भर करता है। यह उच्च वैक्यूम के तहत आणविक गति के मुक्त पथ में अंतर का उपयोग करके गर्मी-संवेदनशील सामग्री या उच्च उबलते बिंदु सामग्री के आसवन और शुद्धि की एक प्रक्रिया है। मुख्य रूप से रासायनिक, दवा, पेट्रोकेमिकल, मसाले, प्लास्टिक और तेल और अन्य औद्योगिक क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है।

सामग्री को फीडिंग पोत से मुख्य आसवन जैकेटेड वाष्पीकरण में स्थानांतरित किया जाता है। रोटर और निरंतर हीटिंग के रोटेशन के माध्यम से, सामग्री तरल को एक बेहद पतली, अशांत तरल फिल्म में खुरचाया जाता है, और एक सर्पिल आकार में नीचे की ओर धकेल दिया जाता है। वंश की प्रक्रिया में, सामग्री तरल में हल्का सामग्री (कम उबलते बिंदु के साथ) वाष्पीकरण करना शुरू कर देता है, आंतरिक कंडेनसर में स्थानांतरित होता है, और लिक्विड फ्लास्क प्राप्त करने वाले प्रकाश चरण में बहने वाला तरल हो जाता है। भारी सामग्री (जैसे क्लोरोफिल, लवण, शर्करा, मोमी, आदि) वाष्पित नहीं होती है, इसके बजाय, यह मुख्य बाष्पीकरणकर्ता की आंतरिक दीवार के साथ बहती है, जो कि फ्लास्क प्राप्त करने वाले भारी चरण में होती है।